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氦質譜檢漏儀用于 PECVD 镀膜设备检漏
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氦質譜檢漏儀用于 PECVD 镀膜设备检漏


應用十七、氦質譜檢漏儀用于 PECVD 镀膜设备检漏

德国Pfeiffer HLT 560 氦質譜檢漏儀用于PECVD 镀膜设备检漏应用实例(福建最大的太阳能晶体矽电池制造公司)

一、鍍膜設備檢漏原因
福建最大的太阳能晶体矽电池制造公司, 专业生产太阳能单晶和多晶电池片. 该公司在生产过程中应用了PECVD沉积 Si3N3减反层, 4-5天设备需要保养一次(清洁MASK, 更换支架等等), 由于是清洁设备内部, 所以存在内部腔体密封性失效的可能. 如果镀膜设备密封性不好, 镀出来的产品膜厚会不均匀, 产品四周膜参数会不合格.
如果镀膜设备保养完成后, 能做一次检漏, 就可以避免很多不合格产品的产生, 达到节约生产成本的目的. 德国 Pfeiffer的HLT 560 氦質譜檢漏儀具有操作简单, 反应灵敏的特点, 得到了客户的青睐.

二、鍍膜設備檢漏操作
示意圖如下:




(1).將氦質譜檢漏儀 HLT 560连接到泵组前的检漏口上.
(2).啓動檢漏儀, 檢漏儀開始抽取密閉腔體中的氣體,同時啓動鍍膜設備的泵組.
(3).在鍍膜機内部的真空下降到一定程度的时候,如0.5 mbar以下的时候,拿氦气喷在怀疑有漏的地方,或者检查标准保养时动到的部位.这时需要有人观察檢漏儀的漏率指示值的變化.當漏率上升或漏率值變化劇烈的時候,及時指出漏點所在位置,並做記號.
(4).所有可疑点都检测完成后,关闭檢漏儀,停下鍍膜機的泵组并将鍍膜機打开,将检测出的漏点进行处理(如更换密封圈,清洁等等).处理完成后,再按照前叙步骤检查一遍,直到所有漏点都被清除,检漏过程完成.

 

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