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KRI 離子源應用
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KRI 離子源應用

KRI 離子源應用
上海幸运飞艇网站代理美国 KRI 考夫曼離子源主要應用于真空环境下的离子束辅助沉积, 纳米级的干式蚀刻和表面改性.

 常见的工艺應用

簡稱

 In-Situ Substrate Preclean 基片预清洗

PC

 Ion Beam Modification of Material & Surface Properties 离子束材料和表面改性
 - Surface polishing or smoothing 表面抛光
 - Surface nano structures and texturing 改变纳米结构和纹理
 - Ion figuring and enhancement 离子刻蚀成形
 - Ion trimming and tuning 离子表面優化
 - Surface activated bonding

IBSM




SAB

 Ion Beam Assisted Deposition 离子束辅助沉积

IBAD

 Ion Beam Etching 离子蚀刻
 - Reactive Ion Beam Etching 反应离子蚀刻
 - Chemically Assisted Ion Beam Etching 化学辅助离子蚀刻

IBE
RIBE
CAIBE

 Ion Beam Sputter Deposition 磁控溅射辅助沉积
 - Reactive Ion Beam Sputter Deposition 反应离子磁控溅射沉积
 - Biased Target Ion Beam Sputter Deposition 偏压离子束磁控溅射

IBSD
RIBSD
BTIBSD

 Direct Deposition 直接沉积
 - Hard and functional coatings 硬质和功能膜

DD


作为一种新兴的材料加工技术, 美国 KRI 考夫曼離子源凭借出色的技术性能, 协助客户获得理想的薄膜和材料表面性能. 行业涉及精密光學, 半導體制造, 传感器, 医学等多个领域.

薄膜镀膜
 

精密薄膜控制
薄膜爲若幹單層膜

考夫曼離子源
 

半導體
可重複使用的金屬塗層附著力

离子蚀刻
 

蝕刻晶元
刻蝕均勻性和臨界幾何尺寸

離子源
 

MEMS, 传感器和显示器
表面優化
 

離子源
 

精密光學
薄膜致密稳定, 折射率优化, 吸收率低

離子源
 

磁數據存儲
金屬和介質多層堆疊中納米特性的各向異性和均勻腐蝕

 

 

 

 

 

 

 

 

其他産品