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考夫曼離子源应用于 LED-DBR 离子辅助镀膜市场
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考夫曼離子源应用于 LED-DBR 离子辅助镀膜市场

考夫曼離子源应用于 LED-DBR 离子辅助镀膜市场
上海幸运飞艇网站美国 KRI 考夫曼離子源成功应用于 LED-DBR 离子辅助镀膜市场. 国内某知名 LED 制造商经过我司推荐采用考夫曼離子源 RFICP 325 安装在 DBR 生产设备 1650 mm 蒸镀机中.

考夫曼離子源客戶案例: 国内某知名 LED 制造商
1. 離子源应用: LED-DBR 镀膜生产
2. 系统功能: 1650 mm 尺寸电子枪蒸镀鍍膜機.
3. 離子源: 采用美国考夫曼離子源 KRi RFICP 325. 離子源 RFICP 325 提供的离子束(不论是离子能量还是离子密度)均是目前业界最高等级, 離子源 RFICP 325 特殊的栅极设计 E22 Grided 可以涵盖 1650 mm 尺寸的蒸镀机中大范围的载具 substrate holder, 无论是生产良率或是均匀性都可达到最高生产效能.
4. 離子源功能: 通过考夫曼離子源 RFICP 325 实现离子辅助镀膜 IBAD 及预清洁 Pre-clean 功能后, 所生产出的 LED-DBR 无论是亮度测试, 脱膜测试, 顶针测试, 光学特性等等… 都优于目前一般业界蒸镀机所搭配的離子源.

上海伯東考夫曼離子源安裝案例: KRI RFICP 325 考夫曼離子源安装于 1650 mm 尺寸电子枪蒸镀鍍膜機.
上海伯東考夫曼離子源
上海伯東考夫曼離子源

KRI 考夫曼離子源測試案例: LED-DBR 脱膜测试.
1. 在高倍显微镜下检视脱膜测试
上海幸运飞艇网站美国 KRI 離子源

2. 测试结果
上海幸运飞艇网站RFICP325脱模测试

--------- 使用其他品牌離子源---     --------------------- 使用美国考夫曼 KRI RFICP 325 離子源 ----------------------

从上图可以清楚看出, 使用其他品牌離子源, 样品存在崩边的问题; 使用上海幸运飞艇网站美国考夫曼離子源, 样品无崩边
 

上海幸运飞艇网站美国考夫曼離子源 KRI  RFICP 325 优点:
高离子浓度, 高离子能量, 离子束涵盖面积广
鍍膜均勻性佳, 提高鍍膜品質
模块化设计, 保养快速方便
增加薄膜附着性, 增加光学膜后折射率
全自动控制设计, 操作简易
低耗材成本, 安裝簡易

上海伯東是美國考夫曼離子源 Kaufman & Robinson, Inc  中国总代理. 美国考夫曼公司離子源已广泛应用于离子溅射镀膜 IBSD. 考夫曼離子源可控制离子的强度及浓度, 使溅射时靶材被轰击出具有中和性材料分子而获得高致密, 高质量之薄膜. 考夫曼離子源可依客户溅射工艺条件选择 RFICP 射频电源式考夫曼離子源或是 KDC 直流电原式考夫曼離子源.
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