上海幸运飞艇网站真空产品事业部搬迁通知

射频離子源 RFICP 40
阅读数: 2780

射频離子源 RFICP 40

KRI 考夫曼離子源 RFICP 40
上海幸运飞艇网站代理美国原装进口 KRI 考夫曼型離子源 RFICP 40 : 目前 KRI 射频離子源 RFICP 系列尺寸最小, 低成本高效離子源. 适用于集成在小型的真空腔体内. 離子源 RFICP 40 设计采用创新的栅极技术用于研发和开发应用. 離子源 RFICP 40 无需电离灯丝设计, 适用于通气气体是活性气体时的工业应用.标准配置下 RFICP 40 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 120 mA.

離子源 RFICP 40 特性:
1. 離子源放电腔 Discharge Chamber, 无需电离灯丝, 通过射频技术提供高密度离子, 工艺时间更长.
2. 離子源结构模块化设计, 使用更简单; 基座可调节, 有效优化蚀刻率和均匀性.
3. 提供聚焦, 发散, 平行的离子束
4. 離子源自动调节技术保障栅极的使用寿命和可重复的工艺运行
5. 栅极材质钼和石墨,坚固耐用
6. 離子源中和器 Neutralizer, 测量和控制电子发射,确保电荷中性

KRI 考夫曼離子源 RFICP 40 技术参数:

型號

RFICP 40 / RFICP 40FN

供電

RF 射频感应耦合

 - 阴极灯丝

-

 - 射频功率

0.6 KW

電子束

OptiBeam™

 - 栅极

專用

 -柵極直徑

4 cm

中和器

LFN 2000

電源控制

RFICP 1510-2-06-LFNA

配置

-

 - 阴极中和器

LFN1000 or MHC1000 or RFN

 - 安装

移動或快速法蘭

 - 高度

5.0'

 - 直径

5.3'

 - 离子束

聚焦
平行
散設

 -加工材料

金屬
電介質
半導體

 -工藝氣體

惰性
活性
混合

 -安裝距離

6-18”

 - 自动控制

控制4種氣體

* 可选: 灯丝中和器; 可变长度的增量

KRI 考夫曼離子源 RFICP 40 应用领域:
預清洗
表面改性
輔助鍍膜(光學鍍膜)IBAD,
溅镀和蒸发镀膜 PC
离子溅射沉积和多层结构 IBSD
离子蚀刻 IBE

其他産品