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KRI 考夫曼離子源 KDC 10
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KRI 考夫曼離子源 KDC 10

KRI 考夫曼離子源 KDC 10
上海幸运飞艇网站代理美国原装进口 KRI 考夫曼離子源 KDC 10: 考夫曼型離子源 Gridded 系列最小型號的離子源. 适用于集成在小型的真空设备中, 例如预清洗, 离子溅射, 离子蚀刻. 在 <1000eV 低能量, 通 Ar 氩气时离子蚀刻的能力显著提高.KDC 10 離子源低损伤, 宽束设计, 低成本等优点广泛应用在显微镜领域, 标准配置下 KDC 10 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 10mA.

 KRI 考夫曼離子源 KDC 10 技術參數

型號

KDC 10

供電

DC magnetic confinement

 - 阴极燈絲

1

 - 阳极电压

0-100V DC

 - 栅极直径

1cm

中和器

燈絲

電源控制

KSC 1202

配置

-

 - 阴极中和器

Filament, Sidewinder Filament  或LFN 1000

 - 架构

移動或快速法蘭

 - 高度

4.5'

 - 直径

1.52'

 - 离子束

集中
平行
散設

 -加工材料

金屬
電介質
半導體

 -工藝氣體

惰性
活性
混合

 -安裝距離

2-12”

 - 自动控制

控制4種氣體


KRI 考夫曼離子源 KDC 10 應用領域
离子清洗, 显微镜抛光 IBP
溅镀和蒸发镀膜 PC
辅助镀膜(光学镀膜) IBAD
表面改性, 激活 SM
离子溅射沉积和多层结构 IBSD
离子蚀刻 IBE

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