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KRI 考夫曼離子源 Power Supply and Control
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KRI 考夫曼離子源 Power Supply and Control


KRI Ion Source Power Supply and Power Pack Controllers 功率控制器

KRI Ion Source 應用領域:

無柵極等離子源技術
----End-Hall 离子/等離子源
有柵極離子源技術
----RFICP 離子源
----DC 離子源
電子源
技術
----燈絲
----中空阴极 (Hollow cathode)
----等離子中和器
單機應用
----直流电源 (DC power)
----射频电源 (RF power)

有多个模组组成,模组的特性取决于功率、频率、电压、电流和控制方式,大多数模组都满足 CE 和 CoHS 标准。

監控:監視器
穩定輸出:設置的最優化
狀態診斷:用戶直接獲取
參數存儲:准確保存

連續性和穩定性
功率控制器能夠在緊急情況下比如載入高能量的等離子體、短路、電流過沖、電壓過沖和功率過沖的情況,實現保護功能。確保在運行沈積和刻蝕工藝時進行不間斷的操作。通過數顯的面板,可以即時觀測和控制工藝參數和狀態資訊。

KRI Individual Power Supply Controller 独立的功率控制器
功率控制器可以單獨使用也可以集成到其它功率包中,能提供直流、交流和射頻功率。
AC Power 交流电源

交流電源輸出一個低頻的直流信號,適用于低阻抗負載,比如驅動類似于燈絲這樣的發熱原件,通過大的功率加熱燈絲到發射熱電子的溫度。
交流電源比直流電源更有利于燈絲壽命的延長
軟起功能有助于平穩的提高燈絲溫度從冷起到電子發射的溫度

型號:
FC 1000
FC 1006
DC Power 直流电源

直流电源通常应有在等离子体辉光放电、偏压和离子加速。可提供几千瓦的输出功率,电压范围 80~1000 V。典型应用是用于离子、等离子和電子源的电极和衬底偏压。
對陽極施以電壓點燃和維持等離子放電
對等離子施以偏壓去定量離子能量
對離子光柵施以偏壓去撲捉和加速離子
對陰極施以電壓獲得電子流
輸出的電壓、電流和調節模式可選,可更具需要選擇輸出值像等離子電位、離子能量、電子流和離子軌道等參數。

RF Power 射频电源
射頻電源産生一個射頻信號,適用于低阻抗的電磁負載,典型應用是驅動射頻天線將能量輻射進等離子腔室。通過感應耦合的方式射頻功率産生和維持一個高密度的等離子。通過自動阻抗匹配使功率大的傳輸最優化,此外設計上使電容耦合和功率衰減最小化。

型號:
RF 1000
RF 1500
氣體控制器:
KRI 气体控制器提供功率和控制多路品质流量计,能够使用于不同的气体和气体混合物,而且可以和几乎所有的不同制造商的模组相容,数字显示模式。使用者可以自行设置流量并有存储功能。

型號: GC 1000
自動系統控制器:

是一個可程式設計的單元,能集成到電源模組中去提供完美的功率控制。該控制器采用獨有的通信協定與功率模組進行快捷的通信,實現控制功能。
它能够自动选择最优的模式去校准等离子负载,达到最稳定的状态,同时可以选择回馈模式。能存储多个工艺程序,同时控制多个 MFC。

自動系統控制器:
是一個可程式設計的單元,能集成到電源模組中去提供完美的功率控制。該控制器采用獨有的通信協定與功率模組進行快捷的通信,實現控制功能。
它能夠自動選擇最優的模式去校准等離子負載,達到最穩定的狀態,同時可以選擇回饋模式。能存儲多個工藝程序,同時控制多個MFC。

KRI Integrated Power Pack Controller 电源模组集成包
电源模组集成包有独立的电源模组衍生而来,因为 KRI 的独立电源模组是一种标准的模组,所以这些模组能够容易的集成到自动、多功能的功率包中。集成包是一个强有力的工具,能够简化等离子、离子和電子源的操作,最大的优点是可以方便的实现功率控制的最优化。

當經常應用在如下的場合:
1. 工艺工程师想实现宽范围的工艺设计和优化,渴望确保参数的重复性,工艺可控
2. 生产经理想实现一个简单的命令操作,使工艺参数快速稳定
3. OEM 想实现高的集成度从而降低成本
4. 从事薄膜表面和纳米结构的科研工作者想实现灵活、精确的工艺控制

eH Plasma Power Pack Controller---eH 等离子功率集成包
eH 等离子功率集成包用于驱动 end-Hall 離子源,它由电子发射模组、等离子放电模组和自动系统控制模组组成,结构紧凑、重量轻便。适用于材料工艺中要求高效、稳定和精确的电子或離子源的功率控制。

它能给 end-Hall 等離子源的阳极或阴极提供功率,使用者可根据需要设置阳极的离子密度和离子能量,同样的使用者也可以界定阴极的电子流参数。eH Plasma Power Pack 能够跟踪离子流,自动发射电子确保电中性。

eH Plasma Power Pack 有自我保护功能,同时它是一个快速反应的功率源,可以在几秒钟内点火产生等离子,并在几秒钟内使离子束达到稳定。可以存储多个工艺程序、控制多个MFC确保对多种气体和气体混合物的精确控制。
使用者能容易的設置各種參數和模式、狀態,面版上會顯示出設定值、運行值、功能表存儲資訊和工作狀態資訊。

KRI RFICP Ion Power Pack Controller 射频感应耦合等离子功率集成包
RFICP Ion Power Pack Controller 用于驱动有柵極離子源,由中和器模组、放电模组、偏压模组和加速模组组成,这些模组集成在一个 19” 的集成包中。

RFICP Ion Power Pack Controller 给離子源的射频线圈、离子光学和中和器提供电源,将射频功率耦合到辉光放电腔室,产生高密度的等离子体。配有自动阻抗适配器实现最优化,用户可以选择离子能量和离子密度来满足工艺的要求。广泛用于沉积和刻蚀工艺中。
射频的额定功率 0.5 KW 或更高,中和器的额定功率 0.5 A 或更高。
 

其他産品